资本观察

近期，各大视频平台疯传一条消息称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。还在视频中配了这样一张图，表示图片中的项目就是光刻厂。对此，微信公众号“中国电子院”9月18日发布信息辟谣称，该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。

中国电子院介绍道，HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转。

电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。